Application Note, vol. 14, Sep. 2017.
Advanced Instrumental Analysis Center, Shizuoka Institute of Science and Technology 1
キーワード
膜厚測定
X線反射率
X線回折装置
装置
SmartLab, Rigaku
分析事例
紹介
全自動水平型多目的
X
線回折装置
SmartLab
を用いた
X
線反射率法による金薄膜
膜厚測定
じめに
全自動水 型多目的X線回折装置SmartLabを用い オンスパッタ ング装置
作成し 金薄膜 膜厚を測定し 分析事例を紹介す
実験
オンスパッタ ング装置(JFC-1100E,
日本電子, 図1)を用い ガ ス基板 約
18 nm 金薄膜を形成し オンスパッ
タ ング オン電流10mA, コ テ ン
グ時間2.5分 条件 行っ 記 条件
金薄膜 換算膜厚 約18 nm あ
[1] X線回折装置SmartLabを用い X線
反射率測定を行っ 測定し X線反射率
X線入射角度依存性 対し 膜構造を
仮定し シミュレ ションを行うこ
膜厚を評価し
結果
図１ 金薄膜 反射率測定 結果を示す 金薄膜 よ X 線 渉 観測さ
薄膜総合解析ソ ト GlobalFitを用い シミュレ ションを行い 膜厚16.4 nm
を求め 求め 膜厚値 コ テ ング時間 おけ 換算膜厚18 nm [1] 一致し
Application Note, vol. 14, Sep. 2017.
Advanced Instrumental Analysis Center, Shizuoka Institute of Science and Technology 2 10-6
10-5 10-4 10-3 10-2 10-1 100
Ref
lect
ion
in
te
n
sity /
a
rb
.
u
n
its
3.0 2.0
1.0
2theta / degree 測定
シミュレーション
図１ 金薄膜 反射率測定結果
まとめ
全自動水 型多目的X線回折装置 SmartLabを用い X線反射率測定 よ 金薄膜
膜厚評価を紹介し 全自動水 型多目的 X 線回折装置 SmartLab 集中法や X
線反射率測定 け く 薄膜法 極点測定 残留応力測定等を行うこ ま
ICDD を備え お 未知試料 定性分析 活用す こ
参考文献
[1] オンスパッタ ング装置JFC-1100E 取扱説明書
静岡理工科大学
先端機器分析センター
Advanced Instrumental Analysis Center,
Shizuoka Institute of Science and Technology
www.sist.ac.jp/kiki/
〒437-8555
静岡県袋井市豊沢2200-2
TEL : 0538-45-0175
